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HORIBA/堀場SLIA-300二氧化硅濃度計(jì)，滿足以 0.01µg/L (0.01 ppb) 的較高靈敏度測量超低密度二氧化硅的客戶需求，采用了一種新的“長光路徑長度測量單元“，能夠?qū)Τ兔芏榷趸柽M(jìn)行高靈敏度測量，同時(shí)還提供緊湊的桌面型號(hào)，以提高實(shí)用性。該產(chǎn)品具有自診斷等一系列標(biāo)準(zhǔn)功能以及高速響應(yīng)和高靈敏度等新的性能改進(jìn)，為半導(dǎo)體生產(chǎn)制程中的純水工藝提供了更強(qiáng)的支持。

HORIBA/堀場SLIA-5000二氧化硅分析儀，二氧化硅（SiO2）的管理對(duì)于防止水垢的形成至關(guān)重要。這是因?yàn)闇u輪機(jī)中存在的水垢會(huì)降低發(fā)電效率，尤其是對(duì)火力發(fā)電廠和核電廠，用于測量鍋爐水和純水中的微量二氧化硅。

HORIBA/堀場HU-200SS懸浮物分析儀/MLSS儀，現(xiàn)場安裝型MLSS儀（四線制傳輸），連接浸入式MLSS傳感器（SS-90）并測量活性污泥中的MLSS。使用近紅外輻射透射法可以測量范圍廣泛（0-2000mg/L）的SS含量，且具有良好的重復(fù)性。

HORIBA/堀場TW-150在線水質(zhì)分析儀是一個(gè)為飲用水廠和配水廠設(shè)計(jì)的過程水質(zhì)量測量系統(tǒng)。TW-150監(jiān)測濁度、色度、游離性余氯、水壓和pH值，無需任何試劑進(jìn)行測量。這種無需化學(xué)試劑的方法降低了運(yùn)營成本，只需要少量的維護(hù)，并提高了過程控制。

HORIBA/堀場HF-960M化學(xué)藥液濃度計(jì)，低濃度型HF/HCl/NH3濃度計(jì)采用的傳感器具有出色的耐腐蝕性，可對(duì)低濃度的化學(xué)品進(jìn)行高精度、高速測量，因此是單槽清洗和晶圓清洗的理想選擇。HF-960M 也是一款環(huán)保產(chǎn)品，使用無鉛焊料將芯片嵌入印刷電路板。

HORIBA/堀場CS-620F光纖型高溫磷酸濃度計(jì)，在3D NAND 制程中，沉積幾十層二氧化硅和氮化硅，并使用高溫磷酸選擇性地刻蝕氮化硅層。能夠在高達(dá)170℃ 的高溫下進(jìn)行測量。使用吸收光譜進(jìn)行連續(xù)測量，與其他方法相比，需要的維護(hù)和耗材更少。